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Filme fino de ZrO2 enxertado sobre a superfície de sílica gel: preparação e propriedade de adsorção de Cr(VI)

ZrO2 thin film grafted on silica gel surface: preparation and Cr(VI) adsorption property

Resumo

The present experiment describes an easy procedure for obtaining SiO2/ZrO2 by reacting ZrOCl2 with SiO2 with the following characteristics: S BET = 500 m² g-1 and an average pore diameter of 6 nm. The material obtained presented 1.3 wt% ZrO2 content corresponding to 140 mumol g-1. The average density of ZrO2 onto SiO2/ZrO2 matrix is 2.8x10-11 mol cm-2. The adsorption isotherm for Cr(VI) showed a maximum of adsorption value (200 mumol g-1) at pH 2. The adsorption can be described by the reaction: =Zr(OH)2 + 2HCrO4- + 2H+ <IMG SRC="http:/img/fbpe/qn/v25n3/9346fr1.gif">[(=Zr(OH2+)2) (HCrO4-)2]. Above the zero point of charge, i.e. pH > 5.5 due to the surface charge inversion, desorption of Cr(VI) occurs according to the reaction: [(=Zr(OH2+)2) (HCrO4-)2] + 6OH- <IMG SRC="http:/img/fbpe/qn/v25n3/9346fr1.gif">(=ZrO2)2- + 6H2O + 2CrO4(2-).

silica gel; zirconium(IV) oxide; chromium(VI)


silica gel; zirconium(IV) oxide; chromium(VI)

Educação

FILME FINO DE ZrO2 ENXERTADO SOBRE A SUPERFÍCIE DE SÍLICA GEL: PREPARAÇÃO E PROPRIEDADE DE ADSORÇÃO DE Cr(VI)

Angélica M. Lazarin, Claudemir A. Borgo e Yoshitaka Gushikem*

Instituto de Química, Universidade Estadual de Campinas, CP 6154, 13083-970 Campinas - SP

*e-mail: gushikem@iqm.unicamp.br

Recebido em 2/7/01; aceito em 24/10/01

ZrO2 THIN FILM GRAFTED ON SILICA GEL SURFACE: PREPARATION AND Cr(VI) ADSORPTION PROPERTY. The present experiment describes an easy procedure for obtaining SiO2/ZrO2 by reacting ZrOCl2 with SiO2 with the following characteristics: SBET = 500 m2 g-1 and an average pore diameter of 6 nm. The material obtained presented 1.3 wt% ZrO2 content corresponding to 140 mmol g-1. The average density of ZrO2 onto SiO2/ZrO2 matrix is 2.8x10-11 mol cm-2. The adsorption isotherm for Cr(VI) showed a maximum of adsorption value (200 mmol g-1) at pH 2. The adsorption can be described by the reaction: =Zr(OH)2 + 2HCrO4- + 2H+ [(=Zr(OH2+)2)(HCrO4-)2]. Above the zero point of charge, i.e. pH > 5.5 due to the surface charge inversion, desorption of Cr(VI) occurs according to the reaction: [(=Zr(OH2+)2)(HCrO4-)2] + 6OH- (=ZrO2)2- + 6H2O + 2CrO42-.

Keywords: silica gel; zirconium(IV) oxide; chromium(VI).

INTRODUÇÃO

As técnicas de preparação de filmes finos de uma espécie química sobre a superfície de substratos com algumas características tais como grande resistência mecânica e elevada porosidade são de grande interesse do ponto de vista tecnológico. Os substratos comumente utilizados são compostos inorgânicos, como sílica gel, alumina e zeólitos1.

A sílica gel é normalmente utilizada pelo fato de preencher a maioria dos requisitos acima das características de um substrato. A sílica é um óxido inorgânico, representado por SiO2, no qual cada átomo de silício é coordenado tetraédricamente por quatro átomos de oxigênio2. Os grupos silanóis (Si-OH) da superfície da sílica gel permitem a imobilização de uma grande variedade de moléculas organofuncionais ou inorganofuncionais em sua superfície3-5.

Objetivos da experiência

Este experimento, que já foi testado e aprovado nos laboratórios de química inorgânica experimental do IQ/Unicamp, consiste na preparação e utilização de SiO2/ZrO2. Este material apresenta uma sílica altamente porosa em que a superfície foi recoberta com um filme fino de ZrO2. O óxido imobilizado possui um ponto de carga zero 5,56, abaixo do qual ele pode adsorver seletivamente Cr(VI)7,8. O experimento proposto inclui então, além da preparação do material, o estudo da isoterma de adsorção do Cr(VI) em diversos pH da solução.

PARTE EXPERIMENTAL

Preparação de SiO2/ZrO2

Em um béquer adicionou-se 0,25 g de ZrOCl2.8H2O e 25 mL de água destilada. À solução resultante adicionou-se 5 g de sílica gel (Fluka), diâmetro de poro médio de 60 Å e área superficial específica de 500 m2g-1. Esta mistura foi colocada em um banho-maria à 353 K por aproximadamente 3 h. Após este período o sólido foi filtrado e lavado com excesso de água destilada até que todos os íons Cl- fossem removidos. O teste é realizado com AgNO3 0,01 mol L-1 em meio de acido nítrico diluído (0,01 mol L-1). O sólido resultante, designado por SiO2/ZrO2, foi seco em estufa por aproximadamente 30 min à 423 K.

Análise química

A quantidade de zircônio na superfície da sílica gel quimicamente modificada foi analisada através da fluorescência de raios-X, utilizando-se o aparelho EDX-700 da Shimadzu. A análise química não é fundamental para o sucesso do experimento, visto que um teste simples e rápido permite que se observe a presença ou não do Cr(VI) na superfície da sílica. O teste consiste em colocar um pouco do sólido obtido SiO2/ZrO2 em uma solução acidulada (pH 3) de Cr(VI).

Isotermas de adsorção

A isoterma de adsorção de íons Cr(VI) pela SiO2/ZrO2 foi realizada em soluções aquosas a diversos pH pela técnica de batelada a 298 K. Os frascos contendo 25 mL das soluções padrões de K2Cr2O7 1,0x10-3 mol L-1 em diversos pH foram agitados com aproximadamente 0,1 g de SiO2/ZrO2 por aproximadamente 30 min à temperatura ambiente. Os pH foram ajustados através de uma solução de HCl 0,1 mol L-1 ou NaOH 0,1 mol l-1, utilizando-se um pH-metro devidamente calibrado. A solução sobrenadante pode ser recolhida por decantação cuidadosa ou por filtração, sendo preferido o primeiro método pois o material é denso e fica no fundo do recipiente.

Preparou-se uma solução estoque de H2SO4 0,1 mol L-1 e o seu pH foi medido, encontrando se o valor 1,0 ± 0,3 (solução estoque). Esta solução foi transferida a balões volumétricos de 100 mL juntamente com 1 mL das alíquotas dos sobrenadantes que foram recolhidos previamente. Além disso, em cada balão volumétrico, adicionou-se 2,0 mL de uma solução 0,25 % m/v de difenicarbazida e seu volume completado com a solução de H2SO4 0,1 mol L-1 (estoque). A solução de difenilcarbazida foi preparada utilizando-se uma mistura de acetona-água (1:1). Agitou-se estas soluções e esperou-se de 5 a 10 min para o desenvolvimento de cor9. Para a determinação da quantidade de íons Cr(VI), transferiu-se uma porção apropriada destas soluções para uma cubeta de caminho ótico de 1 cm e as leituras de absorbância foram realizadas em 540 nm em um espectrofotômetro Beckman DU 640. É importante que neste ponto, os alunos obtenham o espectro de absorção na região do UV-Visível do complexo Cr(VI)/difenilcarbazida das soluções a serem analisadas.

A quantidade do íon metálico adsorvida, Nf, por grama do material adsorvente utilizado, pode ser calculada pela equação 1:

onde:

Na = quantidade de moles de Cr(VI) inicial

Ns = quantidade de moles de Cr(VI) na solução em equilíbrio com a fase sólida

m = massa de SiO2/ZrO2 utilizada

RESULTADOS E DISCUSSÃO

Modificação da superfície da sílica gel

A quantidade de zircônio na superfície da sílica gel quimicamente modificada obtida através da fluorescência de raios-X foi de 1,3% (m/m) o que corresponde a 140 mmol de ZrO2 por grama de SiO2.

As reações químicas de modificação da sílica gel podem ser representadas conforme a equação 2, abaixo

Os grupos =ZrOH (pKa 7) dispersam-se uniformemente pela superfície da sílica, presumivelmente pela formação da ligação SiO-Zr mostrada acima. Um dos argumentos mais fortes para tal afirmação é que a microscopia eletrônica de varredura, acoplada a um sistema de mapeamento do Zr na superfície, não mostra sinais visíveis de que as partículas de ZrO2 tenham formado aglomerados. A formação deste aglomerados não ocorre, porque o óxido metálico interage fortemente com o substrato.

Admitindo-se que o ZrO2 esteja uniformemente disperso na superfície formando uma monocamada, a densidade média do óxido metálico, d, pode ser determinada pelo aluno aplicando-se a equação 3:

onde n é a quantidade de ZrO2 por grama do material (em mol g-1) e SBET é a área superficial específica determinada pelo método de BET. A área superficial específica já vem indicada no rótulo da sílica gel utilizada. No presente caso, d = 2,8x10-11 mol cm-2.

Isotermas de adsorção

Na obtenção dos valores para a isoterma de adsorção de íons Cr(VI) realizou-se a leitura espectrofotométrica pelo método de complexação de íons Cr(VI) com a difenilcarbazida. A reação dos íons Cr(VI) em meio ácido com a difenilcarbazida produz um complexo colorido com absorção máxima em 540 nm (Figura 1). O método colorimétrico para determinação de íons Cr(VI) utilizando a difenilcarbazida é mais sensível em relação a outros métodos analíticos10.


A adsorção do íon Cr(VI) na superfície de SiO2/ZrO2 é fortemente influenciada pelo pH da solução, como podemos observar na Figura 2. Verificou-se que a máxima adsorção ocorre em pH 2, onde a quantidade adsorvida é de 200 mmol g-1. Em soluções aquosas de íons Cr(VI), entre pH 1 a 8, observa-se uma mistura de espécies11 em equilíbrio como CrO42-, Cr2O72-, HCrO4-, H2CrO4 como mostrado na Figura 3. Em pH 2, a adsorção do íon pode ser representada pelo equilíbrio abaixo (equação 4).

onde =Zr(OH)2 e [(=Zr(OH2+)2)(HCrO 4-)2] representam, respectivamente, o óxido metálico hidratado imobilizado à superfície da sílica gel e o par iônico formado na interface sólido-solução. Pois para a concentração total de Cr(VI) £ 10-5 mol L-1, em equilíbrio com a fase sólida, a abundância relativa observada para a espécie iônica HCrO4- é da ordem de 97%.



Em pH menor que 2 verifica-se uma diminuição na adsorção de íons Cr(VI) pela matriz devido a uma competição crescente de Cl- cuja concentração aumenta em pH menores. Lembre que a concentração inicial total da espécie HCrO4- é constante em todos os frascos de reação.

Em valores de pH maiores do que 3 verificou-se um decréscimo da quantidade de íon adsorvido pelo substrato. Isto ocorre porque o ponto de carga zero do ZrO2 é 5,56, isto é, acima de pH 5,5, a superfície da matriz se desprotona observando uma inversão da carga superficial e então a repulsão eletrostática entre os íons Cr(VI) e a superfície da matriz, como é representado no equilíbrio abaixo12,13 (equação 5):

CONCLUSÃO

Nesta experiência, que é dirigida ao curso de graduação em química, foram abordados aspectos importantes da química de modificação da superfície de um substrato através de um experimento relativamente simples. O experimento pode ser realizado em um dia, entretanto, a impossibilidade de utilizar o aparelho de fluorescência de raios-X não impede a compreensão e interpretação dos resultados obtidos.

AGRADECIMENTOS

A. M. Lazarin e C. A. Burgo agradecem à FAPESP e ao CNPq pelas bolsas de doutoramento recebidas.

REFERÊNCIAS

  • 1. Lisichkin, G. V.; Kudryavtsev, G. V.; Nesterenko, P. N.; J. Anal. Chem. USSR. 1983, 38, 1288.
  • 2. Iler, R. K.; The Chemistry of Silica, John Wiley & Sons: New York, 1958.
  • 3. Iamamoto, M. S.; Gushikem, Y.; J. Colloid Interface Sci. 1990, 134, 275.
  • 4. Guignard, F.; Lecuyer, C.; Bougault, C.; Lefebvre, L.; Choplin, A.; Oliver, D.; Basset, J. M.; Inorg. Chem. 1992, 31, 928.
  • 5. Spencer, N. D.; Pereira, C. J.; Graselli, R. K.; J. Catal. 1990, 126, 546.
  • 6. Zajac, M. L.; Partyka, S.; Colloids Surf. 1995, 98, 197.
  • 7. Kubota, L. T.; Gushikem, Y.; Moreira, J. C.; Analyst 1991, 116, 281.
  • 8. Peixoto, C. R. M.; Gushikem, Y.; Bacan, N; Analyst 1992, 117, 1029.
  • 9. Standard Methods for the Examination of Water and Wastewater; American Public Health Association, American Water Works Association, and Water Environment Federation, 18a ed., 1992, p 3-90.
  • 10. Vogel, A. I. Em Análise Inorgânica Quantitativa, 4a ed., Ed. Guanabara S. A.: Rio de Janeiro, Brasil, 1981, p. 549.
  • 11. Tandon, R. K.; Crisp, P. T.; Ellis, J.; Baker, R. S.; Talanta 1984, 3, 227.
  • 12. Abe, M.; Wang, P.; Shitrakar, R.; Tsuji, M.; Analyst 1989, 114, 435.
  • 13. Britz, D.; Nancollas, G. H.; J. Inorg. Nucl. Chem. 1969, 31, 3861.

Datas de Publicação

  • Publicação nesta coleção
    07 Ago 2002
  • Data do Fascículo
    Maio 2002

Histórico

  • Aceito
    24 Out 2001
  • Recebido
    02 Jul 2001
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