Resumo

SANTANA, Leonardo P.; ALMEIDA, Erick S. de; SOARES, Jones L.  e  VICHI, Flavio M.. Low temperature synthesis of CdSiO₃ nanostructures. J. Braz. Chem. Soc. [online]. 2011, vol.22, n.10, pp. 2013-2017. ISSN 0103-5053.  http://dx.doi.org/10.1590/S0103-50532011001000025.

Descreve-se a síntese de nanoestruturas de CdSiO₃ cristalino como fase única a 580ºC; ao que sabemos, esta é a mais baixa temperatura de formação observada até o presente para este composto. A formação da fase desejada ocorre somente a partir de de 580ºC, já que a 570ºC os picos de difração estão deslocados para menores ângulos em relação ao padrão JCPDS 85-0310. A fonte de silício influencia diretamente a morfologia do material: Na₂SiO₃ leva à formação de nanopartículas na forma de agulhas, ao passo que sílica mesostruturada de alta área superficial leva a partículas coralóides. A difratometria de raios X em baixo ângulo mostra que o caráter mesosestruturado da sílica precursora não se mantém no CdSiO₃ resultante. A microscopia eletrônica de varredura sugere que, neste caso, haja uma transição da morfologia esférica do precursor para a morfologia em forma de agulhas do material obtido a partir de Na₂SiO₃. A área superficial do precursor de sílica utilizado tem influência direta na formação de CdSiO₃, pois o uso de sílica comercial de menor área superficial não resulta no produto desejado.

Palavras-chave : cadmium metasilicate; morphology control; molten precursor method.