Este estudo avaliou o efeito da concentração de solvente na resistência coesiva de um adesivo experimental contendo um derivado do difeniliodônio. Uma blenda monomérica baseada em Bis-GMA, TEGDMA e HEMA foi utilizada como resina adesiva modelo. Foram avaliados dois sistemas de fotoiniciação: um sistema bináriocanforquinona (CQ) e etil 4-dimetilamino benzoato (EDAB)] e um sistema ternário [CQ, EDAB e hexafluorfosfato de difeniliodônio (DPI)]. Nestas resinas foram adicionadas diferentes concentrações de etanol, 0, 5, 10, 20, 30, 40% e teste de resistência coesiva foi utilizado para investigar o efeito deste solvente sobre as propriedades do material. A presença de solvente reduziu a resistência coesiva do polímero, independentemente do sistema de fotoiniciação utilizado. Além disso, o uso do sal de iodônio no sistema de fotoiniciação aumentou a resistência coesiva quando comparado com o sistema binário, e independentemente da concentração de solvente, a resistência coesiva dos polímeros contendo difeniliodônio foi superior à do sistema binário de fotoiniciação.
Adesivos; solventes; hexafluorfosfato de difeniliodônio; resistência mecânica
