RESUMO
A utilização de gaiola catódica se apresenta com um grande potencial de deposição de filmes finos e espessos, seja em substrato de vidro ou em peças metálicas. São inúmeras as possibilidades dessa técnica. Neste trabalho, a descarga de plasma em gaiola catódica foi usada para deposição de filmes de nitreto de titânio em substrato de vidro. O objetivo foi o de comparar as propriedades dos filmes depositados com uso de duas gaiolas com tampas de espessuras diferentes. Para caracterização dos filmes foram feitas análises por difração de raios X, medidas de espessura por reflectometria, medidas de resistividade elétrica, transmitância e imagens das superfícies por microscopia eletrônica de varredura e análise da composição por EDS. A reflectometria mostrou que a taxa de deposição e a rugosidade dos filmes aumentaram com a utilização de tampa de maior espessura (10 mm). O filme depositado na atmosfera de 155 sccm de N2 , 95 sccm de H2 e pressão de 0,5 Torr apresentou baixa transmitância na região do vermelho e infravermelho próximo, tornando-o um candidato para ser utilizado como filtro de infravermelho.
Palavras-chave:
Gaiola catódica; nitreto de titânio; filmes finos
