Abstract

SILVA, Ariel Almeida Abreu  and  ANDRADE-NETO, A.V.. Cálculo da taxa de ionização por campo de um átomo próximo a uma superfície metálica: aplicação ao microscópio iônico de campo. Rev. Bras. Ensino Fís. [online]. 2012, vol.34, n.1, pp. 1-5. ISSN 1806-1117.  http://dx.doi.org/10.1590/S1806-11172012000100004.

Neste trabalho calculamos a taxa de ionização (probabilidade de ionização por unidade de tempo) para um átomo póximo a uma superficie metálica submetido a um campo elétrico uniforme. A probabilidade de penetração da barreira é calculada usando a aproximação WKB. Utilizando-se um modelo simples para a energia potencial do elétron externo do átomo, mas que contém as características física principais do problema, obtem-se uma expressão analítica para a taxa de ionização em função da distância átomo-superfície. Apresenta-se também de forma introdutória os princípios básicos de funcionamento do microscópio iônico de campo.

Keywords : ionização por campo; microscopia iônica; método WKB.