O objetivo desta pesquisa foi avaliar a influência do condicionamento ácido e do tempo de fotopolimerização na Resistência Adesiva (RA) e no Índice de Adesivo Remanescente (IAR) do Cimento Ionômero de Vidro Modificado por Resina (CIVMR). Sessenta e oito incisivos permanentes de bovinos foram obtidos e incluídos em resina acrílica. Bráquetes metálicos edgewise foram colados nesses corpos de prova com o CIVMR Fuji Ortho. A amostra foi dividida em 4 grupos, utilizando os seguintes condicionamentos ácidos e tempos de fotopolimerização: G1- Ácido poliacrílico a 10% e 40 s (controle); G2- Ácido fosfórico a 37% e 40 s; G3- Ácido poliacrílico a 10% e 50 s; e G4- Ácido fosfórico a 37% e 50 s. O teste de cisalhamento foi realizado a 0,5 mm/min e o IAR avaliado. O G2 (3,6 ± 0,98 MPa) apresentou RA estatisticamente maior que o G1 (2,76 ± 0,86 MPa) e o G4 (2,86 ± 0,68 MPa) (p<0,05), e não houve diferença estatística entre G2 e G3 (2,94 ± 0,67 MPa) (p>0,05). O IAR apresentou prevalência dos escores 2 e 3 em todos os grupos. A RA do CIVMR aumenta com condicionamento com ácido fosfórico a 37% e 40 s de fotopolimerização, mas isto não ocorre quando o tempo de fotopolimerização é aumentado, independente do tipo de ácido utilizado; e o CIVMR apresenta prevalência de fratura na interface adesivo/bráquete.
