Objetivou-se, no presente trabalho, avaliar o efeito da aplicação de AIB e diferentes tipos de substratos na propagação vegetativa de lichia via técnica de alporquia. Os alporques foram realizados em ramos semilenhosos, sadios e vigorosos da cultivar Bengal, com 12 anos de idade. Os ramos foram anelados com 1,5 cm de largura, tratados com diferentes concentrações de AIB (0; 1.000; 2.000; 3.000 e 4.000 mg.L-1), distribuídos em solução com auxílio de pincel e cobertos com três diferentes tipos de substratos (plantmax®, húmus e esfagno) umedecidos. Em seguida, foram envolvidos com plástico transparente e amarrados nas duas extremidades, para criar um ambiente úmido ao redor da lesão, favorável ao desenvolvimento de raízes, para a produção dos alporques. Após 84 dias, avaliaram-se o comprimento de raiz (cm), o número de raízes, expresso em notas de 0 a 5, e a porcentagem de calejamento e de enraizamento. Maior sucesso na propagação vegetativa de lichia, cultivar Bengal, via técnica de alporquia, foi obtido utilizando como substrato o plantmax® AIB entre 2.166 e 2.430 mg.L-1. A utilização de húmus combinado com concentrações entre 2.175 e 2.250 mg.L-1 de AIB também proporcionou bons resultados no desenvolvimento dos alporques. Por outro lado, menor sucesso no desenvolvimento dos alporques de lichia, cultivar Bengal, independentemente da concentração de AIB utilizada, foi obtido com esfagno.
Litchi chinensis Sonn.; alporquia; regulador de crescimento; AIB
