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Revista Caatinga

Print version ISSN 0100-316XOn-line version ISSN 1983-2125

Abstract

COLOMBO, RONAN CARLOS et al. SILÍCIO NO DESENVOLVIMENTO IN VITRO DA ORQUÍDEA Cattleya forbesii. Rev. Caatinga [online]. 2016, vol.29, n.1, pp.18-24. ISSN 1983-2125.  http://dx.doi.org/10.1590/1983-21252016v29n103rc.

A adição de silício (Si) aos meios de cultura tem apontado melhor desenvolvimento das plântulas cultivadas in vitro e redução das perdas durante a fase de aclimatização. Objetivou-se avaliar cinco concentrações de SiO2 (0,0; 0,5; 1,0; 1,5 e 2,0 g·L−1) em meio de cultura MS sobre o crescimento in vitro da orquídea Cattleya forbesii. Aos 200 dias, avaliou-se as variáveis: número de raízes, comprimento médio do sistema radicular, área foliar, número de folhas e de brotos, altura da parte aérea, massa fresca e seca de raízes e de parte aérea, conteúdo de água das raízes e da parte aérea, e pH final dos meios de cultura. Para a maioria das variáveis avaliadas observou-se decréscimo em função do aumento da concentração de Si, reduzindo o desenvolvimento vegetativo in vitro da C. forbesii. Além disso, detectou-se acúmulo de Si nos tecidos foliares por meio da microscopia eletrônica de varredura, confirmando a absorção deste pelas plântulas. Para o crescimento in vitro da espécie estudada, a fonte e concentrações de Si testadas, não apresentaram efeito benéfico.

Keywords : Micropropagação; Meio de cultura; Sílica amorfa..

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